System mit fokussiertem Ionenstrahl und Verfahren zur Fokussierung des Ionenstrahls

EP2874176 Art B1 6. Juli 2016

Anmelder: JEOL LTD., JEOL Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2874176
Aktenzeichen
EP14191939
Anmeldetag
5. November 2014
Veröffentlichung
6. Juli 2016
Erteilung
6. Juli 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/21H01J37/28
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
JEOL LTD.
JEOL Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

288 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen