Herstellungsverfahren für Glas auf SIO2-TIO2-Basis, Herstellungsverfahren für Plattenförmiges Element mit Glas auf SIO2-TIO2-Basis, und Vorrichtung zur Herstellung von Glas auf SIO2-TIO2-Basis

EP2878582 Art B1 26. September 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2878582
Aktenzeichen: EP13809320
Anmeldetag: 27. Juni 2013
Veröffentlichung: 26. September 2018
Erteilung: 26. September 2018
Rechtsraum: EP
IPC: C03B8/04C03B11/00C03B20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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