Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2917785
Art B1
30. September 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2917785
- Aktenzeichen
- EP13773770
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2013
- Veröffentlichung
- 30. September 2020
- Erteilung
- 30. September 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
van de Ven, Jan-Piet
Eindhoven, Niederlande
19
Patente gesamt
9
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven