Verfahren zur Herstellung eines Musters
EP2975633
Art B1
11. September 2019
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2975633
- Aktenzeichen
- EP14785929
- Anmeldetag
- 9. April 2014
- Veröffentlichung
- 11. September 2019
- Erteilung
- 11. September 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank