Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Asymmetrie einer Mikrostruktur, Positionsmessverfahren, Positionsmessvorrichtung, Lithografievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2976679
Art B1
19. Februar 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2976679
- Aktenzeichen
- EP14708264
- Anmeldetag
- 6. März 2014
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2020
- Erteilung
- 19. Februar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
van de Ven, Jan-Piet
Eindhoven, Niederlande
19
Patente gesamt
9
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
-
Verdonk, Peter Lambert F. M
NoneEindhoven