Herstellungsmethode für einen Membranfilter aus Photosensitivem Material
EP2977099
Art B1
3. Juni 2020
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2977099
- Aktenzeichen
- EP15173691
- Anmeldetag
- 24. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2020
- Erteilung
- 3. Juni 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01D67/00B01D69/12B01D69/10B01D53/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Fachgebiete
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Plasseraud IP · Paris
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Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris