Doppelkanal Finfet-Cmos-Vorrichtung mit Gemeinsamem, Relaxiertem Puffer und Verfahren zur Herstellung davon
EP2978017
Art B1
2. September 2020
Anmelder: IMEC VZW, Samsung Electronics Co., Ltd. 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2978017
- Aktenzeichen
- EP15176745
- Anmeldetag
- 15. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 2. September 2020
- Erteilung
- 2. September 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8238H01L29/78H01L27/092
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
Samsung Electronics Co., Ltd. - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇰🇷
Samsung Electronics
Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Clerix, André
Leuven, Belgien
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2
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Schwerpunkte
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Patent Department IMEC
Patent Department IMEC · Leuven