Verfahren zur Herstellung eines Porösen Polyimidfilms, Poröser Polyimidfilm und Trennvorrichtung damit
EP2990199
Art B1
14. November 2018
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2990199
- Aktenzeichen
- EP14787967
- Anmeldetag
- 31. März 2014
- Veröffentlichung
- 14. November 2018
- Erteilung
- 14. November 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B32B27/34B01D69/12B01D71/64B32B5/22C08J9/26H01M2/16H01M8/02H01M8/10B01D67/00B01D69/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
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Plasseraud IP · Paris
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Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris