Verfahren zur Messung einer Oberflächengeometrie und Darin Verwendetes Verfahren

EP2998693 Art B1 11. Juli 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2998693
Aktenzeichen: EP14798582
Anmeldetag: 10. März 2014
Veröffentlichung: 11. Juli 2018
Erteilung: 11. Juli 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G01B11/24G01B11/26G01B9/04G01B9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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