Verfahren zur Herstellung einer Transistorvorrichtung mit einem Germanium-Kanalmaterial auf einem siliziumbasierten Substrat
EP3018715
Art B1
23. Oktober 2024
Anmelder: IMEC VZW 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3018715
- Aktenzeichen
- EP14191938
- Anmeldetag
- 5. November 2014
- Veröffentlichung
- 23. Oktober 2024
- Erteilung
- 23. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/66H01L29/78H01L29/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IMEC VZW
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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