Verfahren zur Herstellung von Säulen oder Lochstrukturen in einer Schicht eines Halbleiterbauelements und entsprechende Halbleiterstruktur
EP3026692
Art A1
1. Juni 2016
Anmelder: IMEC VZW, Katholieke Universiteit Leuven 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3026692
- Aktenzeichen
- EP14194743
- Anmeldetag
- 25. November 2014
- Veröffentlichung
- 1. Juni 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027H01L21/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
Katholieke Universiteit Leuven - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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🇧🇪
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