Reflektierende Fotomaske und Herstellungsverfahren dafür
EP3043375
Art B1
11. Oktober 2023
Anmelder: Toppan Photomask Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3043375
- Aktenzeichen
- EP14842142
- Anmeldetag
- 28. August 2014
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2023
- Erteilung
- 11. Oktober 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Toppan Photomask Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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Vertreten von
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