Halbleitermetrologiesysteme mit mehreren Einfallswinkeln und Verfahren

EP3047520 Art B1 6. November 2019

Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3047520
Aktenzeichen
EP14843577
Anmeldetag
15. September 2014
Veröffentlichung
6. November 2019
Erteilung
6. November 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/66G01N21/88G01N21/95G01B11/00G01N21/21G01B11/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kla-Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

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