Verfahren zur Herstellung einer Nickeldünnschicht auf einem Si-Substrat mittels Cvd-Verfahren und Verfahren zur Herstellung einer Ni-Silicid-Dünnschicht auf einem Si-Substrat

EP3054031 Art B1 30. Januar 2019

Anmelder: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3054031
Aktenzeichen: EP14851079
Anmeldetag: 18. September 2014
Veröffentlichung: 30. Januar 2019
Erteilung: 30. Januar 2019
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/18C07C13/15C07C13/20C23C16/56H01L21/28H01L21/285C07F15/04C23C16/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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