Elektronenoptik mit mehreren Elektroden

EP3069369 Art A1 21. September 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3069369
Aktenzeichen: EP14799423
Anmeldetag: 14. November 2014
Veröffentlichung: 21. September 2016
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/317H01J37/065H01J37/12H01J37/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von