Auf Bildverarbeitung Beruhendes Lithografiesystem und Zielobjektbeschichtungsverfahren

EP3073322 Art B1 1. Juli 2020

Anmelder: SNU R&DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3073322
Aktenzeichen: EP16152367
Anmeldetag: 29. September 2010
Veröffentlichung: 1. Juli 2020
Erteilung: 1. Juli 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/027H01L23/00H01L33/44B29C35/08H01L21/66G03F9/00H01L21/56C23C16/52G03F7/16H01L23/31H01L23/433

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SNU R&DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 SNU R&DB Foundation

Südkoreanische Stiftung der Seoul National University für Forschungsförderung und Technologietransfer, verwaltet Patente und Kooperationen mit der Industrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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