Ausrichtungssensor, Lithografisches System zur Verarbeitung eines Ziels, Wie Etwa eines Wafers, und Verfahren zum Betrieb eines Lithografiesystems zur Verarbeitung eines Ziels Wie Etwa eines Wafers

EP3073323 Art B1 3. März 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V., MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3073323
Aktenzeichen: EP16164149
Anmeldetag: 23. April 2012
Veröffentlichung: 3. März 2021
Erteilung: 3. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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