Positioniersystem für eine Trägerplatte und Lithographischer Apparat
EP3100115
Art B1
27. November 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3100115
- Aktenzeichen
- EP15702165
- Anmeldetag
- 20. Januar 2015
- Veröffentlichung
- 27. November 2019
- Erteilung
- 27. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ras, Michael Adrianus Josephus
Veldhoven, Niederlande
15
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven