Fotomaskenrohling und Fotomaskenherstellungsverfahren
EP3118681
Art B1
29. August 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3118681
- Aktenzeichen
- EP16179566
- Anmeldetag
- 12. März 2007
- Veröffentlichung
- 29. August 2018
- Erteilung
- 29. August 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
1.905 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Bailey, Sam Rogerson
London, Großbritannien
546
Patente gesamt
28
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München