Verfahren zum Entwurf einer Lithografischen Maske

EP3118682 Art B1 19. Oktober 2022

Anmelder: IMEC VZW, Katholieke Universiteit Leuven 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3118682
Aktenzeichen: EP15177048
Anmeldetag: 16. Juli 2015
Veröffentlichung: 19. Oktober 2022
Erteilung: 19. Oktober 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/36G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC VZW
Katholieke Universiteit Leuven
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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