Verfahren zur Herstellung einer Diode mit Vertikaler Struktur
EP3121857
Art B1
9. Oktober 2019
Anmelder: LG Innotek Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3121857
- Aktenzeichen
- EP16187118
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 9. Oktober 2019
- Erteilung
- 9. Oktober 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L33/00// H01L33/32H01L33/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Innotek Co., Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Innotek
Südkoreanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Seoul, Tochtergesellschaft der LG-Gruppe. Entwickelt Komponenten für Kamera- und Optikmodule, Halbleiterträger, Motoren und Materialien für Mobilgeräte, Fahrzeuge und Displays.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Plasseraud IP · Paris
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Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris