Hochreine Refraktärmetallsputter-Targets mit Gleichmässigem Zufallsgefüge hergestellt durch Heissisostatisches Verpressen von Hochreinen Refraktärmetallpulvern
EP3129176
Art B1
9. Oktober 2024
Anmelder: Materion Newton Inc., H.C. Starck Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3129176
- Aktenzeichen
- EP15717391
- Anmeldetag
- 8. April 2015
- Veröffentlichung
- 9. Oktober 2024
- Erteilung
- 9. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22F3/15B22F3/02B22F3/12B22F1/052C23C14/34C22F1/18H01J37/34C22C1/04// B22F3/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Materion Newton Inc.
H.C. Starck Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇩🇪
H.C. Starck
H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.
278 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Wolff, Felix
Köln, Deutschland
1.070
Patente gesamt
33
Fachgebiete
19
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Kador & Partner Part mbB
Kador & Partner Part mbB · München
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München