Hochreine Refraktärmetallsputter-Targets mit Gleichmässigem Zufallsgefüge hergestellt durch Heissisostatisches Verpressen von Hochreinen Refraktärmetallpulvern

EP3129176 Art B1 9. Oktober 2024

Anmelder: Materion Newton Inc., H.C. Starck Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3129176
Aktenzeichen: EP15717391
Anmeldetag: 8. April 2015
Veröffentlichung: 9. Oktober 2024
Erteilung: 9. Oktober 2024
Rechtsraum: EP
IPC: B22F3/15B22F3/02B22F3/12B22F1/052C23C14/34C22F1/18H01J37/34C22C1/04// B22F3/10

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

Wolff, Felix Köln, Deutschland

1.037

Patente gesamt

Fachgebiete

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Verpackungs- & Fördertechnik Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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