Teilchenstrahlsystem und Messverfahren

EP3142139 Art B1 7. August 2019

Anmelder: JEOL LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3142139
Aktenzeichen: EP16187492
Anmeldetag: 6. September 2016
Veröffentlichung: 7. August 2019
Erteilung: 7. August 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/28H01J37/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JEOL LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

520 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von