Einrichtung zur Überwachung der Ausrichtung eines Laserstrahls und Euv-Strahlungserzeugungsvorrichtung damit

EP3142823 Art B1 29. Juli 2020

Anmelder: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH, Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3142823
Aktenzeichen: EP14723449
Anmeldetag: 13. Mai 2014
Veröffentlichung: 29. Juli 2020
Erteilung: 29. Juli 2020
Rechtsraum: EP
IPC: B23K26/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH
Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser- und Systemtechnik

Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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