Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung einer Schmelze

EP3142973 Art A1 22. März 2017

Anmelder: Leading Edge Crystal Technologies, Inc., Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3142973
Aktenzeichen: EP15792841
Anmeldetag: 12. Mai 2015
Veröffentlichung: 22. März 2017
Rechtsraum: EP
IPC: C30B15/06C30B15/10C30B15/14C30B29/06C30B29/64F27B3/02F27B3/10F27B14/06F27B14/14// F27D99/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Leading Edge Crystal Technologies, Inc.
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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