Verfahren zum Entwurf von Metrologiemarken, Substrate mit Metrologiemarken, Überdeckungsmessverfahren und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
EP3149544
Art B1
10. Oktober 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3149544
- Aktenzeichen
- EP14748178
- Anmeldetag
- 1. August 2014
- Veröffentlichung
- 10. Oktober 2018
- Erteilung
- 10. Oktober 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte