Membrane zur Verwendung in einer Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung mit Solch einer Membran
EP3164764
Art B1
24. Februar 2021
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3164764
- Aktenzeichen
- EP15736224
- Anmeldetag
- 2. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 24. Februar 2021
- Erteilung
- 24. Februar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/00G03F1/62G02B5/08G02B5/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Filip, Diana
Veldhoven, Niederlande
14
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Weitere Vertreter
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven