Fluidhandhabungsstruktur und Immersionslithografievorrichtung
EP3172623
Art B1
23. Dezember 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3172623
- Aktenzeichen
- EP15729193
- Anmeldetag
- 18. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2020
- Erteilung
- 23. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria
Veldhoven, Niederlande
12
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven