Projektionslinse, Projektionsbelichtungsvorrichtung und Projektionsbelichtungsverfahren für Euv-Mikrolithographie

EP3195060 Art B1 5. September 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3195060
Aktenzeichen: EP15759468
Anmeldetag: 7. September 2015
Veröffentlichung: 5. September 2018
Erteilung: 5. September 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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