Sulfoniumsalz, Fotosäuregenerator und Lichtempfindliche Zusammensetzung
EP3199520
Art B1
25. Dezember 2019
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3199520
- Aktenzeichen
- EP15843379
- Anmeldetag
- 25. September 2015
- Veröffentlichung
- 25. Dezember 2019
- Erteilung
- 25. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C381/12C07C309/06C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
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Plasseraud IP · Paris
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Cabinet Plasseraud
Cabinet Plasseraud · Paris