Messwafer zum Messen der Strahlungs- und Temperaturexposition von Wafern Entlang einer Herstellungsprozesslinie

EP3201942 Art B1 22. September 2021

Anmelder: KLA - Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

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Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

Keane, Paul Fachtna Dublin, Irland

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Fachgebiete

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Schwerpunkte

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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