Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Laden eines Substrats, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3210080
Art B1
9. Dezember 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3210080
- Aktenzeichen
- EP15775219
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2015
- Veröffentlichung
- 9. Dezember 2020
- Erteilung
- 9. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20F16C29/02F16C32/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Dung, Shiang-Lung
Veldhoven, Niederlande
20
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6
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1
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven