System zur Asymmetrischen Optischen Strahlformung

EP3221727 Art B1 17. März 2021

Anmelder: Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3221727
Aktenzeichen
EP15813274
Anmeldetag
19. November 2015
Veröffentlichung
17. März 2021
Erteilung
17. März 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/00B23K26/00B23K26/06G02B27/09
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Trumpf Laser- und Systemtechnik

Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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