Verfahren und Vorrichtung zur Applikation einer Schicht mit einem Relief auf einer Ebenen Fläche eines Substrats
EP3235626
Art B1
6. Juli 2022
Anmelder: IAI industrial systems B.V., IAI Industrial systems B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3235626
- Aktenzeichen
- EP17166251
- Anmeldetag
- 12. April 2017
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2022
- Erteilung
- 6. Juli 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B29C35/08B29C59/02G03F7/00B32B37/00B32B38/06// B32B37/24B32B38/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IAI industrial systems B.V.
IAI Industrial systems B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande