Geladenes Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur Aberrationskorrektur

EP3255649 Art A1 13. Dezember 2017

Anmelder: Jeol Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3255649
Aktenzeichen: EP17175264
Anmeldetag: 9. Juni 2017
Veröffentlichung: 13. Dezember 2017
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/153H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jeol Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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