Verifizierung der Positionierung Einzelner Lichtstrahlen in der Mehrstrahllithografie

EP3268977 Art A1 17. Januar 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3268977
Aktenzeichen: EP16709081
Anmeldetag: 10. März 2016
Veröffentlichung: 17. Januar 2018
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/304G03F7/20H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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