Gasdurchlässige Membran, Verwendung einer Zusammensetzung zur Herstellung einer Solchen Membran und dessen Herstellungsverfahren
EP3275527
Art B1
11. Oktober 2023
Anmelder: NanoMembrane Technologies, Inc., Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3275527
- Aktenzeichen
- EP17181941
- Anmeldetag
- 18. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2023
- Erteilung
- 11. Oktober 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01D53/22B01D67/00B01D71/70C08K9/06C08L83/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NanoMembrane Technologies, Inc.
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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