Verfahren für die Prüfung von einem Substrat, Metrologievorrichtung und Lithografisches System
EP3309616
Art A1
18. April 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3309616
- Aktenzeichen
- EP16193944
- Anmeldetag
- 14. Oktober 2016
- Veröffentlichung
- 18. April 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01B9/02G01N21/95G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte