Positionsmesssystem und Lithographische Vorrichtung
EP3317725
Art B1
23. März 2022
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3317725
- Aktenzeichen
- EP16725139
- Anmeldetag
- 26. Mai 2016
- Veröffentlichung
- 23. März 2022
- Erteilung
- 23. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01B9/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ras, Michael Adrianus Josephus
Veldhoven, Niederlande
15
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven