Substrathalter, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen
EP3317726
Art B1
2. März 2022
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3317726
- Aktenzeichen
- EP16727449
- Anmeldetag
- 1. Juni 2016
- Veröffentlichung
- 2. März 2022
- Erteilung
- 2. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria
Veldhoven, Niederlande
12
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven