Verfahren und Vorrichtung zur Messung eines Parameters eines Lithogrphischen Verfahren, Computerprogrammprodukte zur Implementierung Solcher Verfahren und Vorrichtungen
EP3318927
Art A1
9. Mai 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3318927
- Aktenzeichen
- EP16197204
- Anmeldetag
- 4. November 2016
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte