Messsystem, Lithographiesystem und Verfahren zur Messung eines Ziels
EP3321736
Art A1
16. Mai 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3321736
- Aktenzeichen
- EP16198200
- Anmeldetag
- 10. November 2016
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte