Spiegelanordnung für die Lithografische Belichtungsvorrichtung und Optisches System mit der Spiegelanordnung

EP3323130 Art B1 12. Juni 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3323130
Aktenzeichen
EP16734665
Anmeldetag
5. Juli 2016
Veröffentlichung
12. Juni 2019
Erteilung
12. Juni 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G21K1/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen