Verfahren zur Wärmebehandlung von Granulat aus Silizium, Granulat aus Silizium und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium
EP3337758
Art A1
27. Juni 2018
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3337758
- Aktenzeichen
- EP16733098
- Anmeldetag
- 1. Juli 2016
- Veröffentlichung
- 27. Juni 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/02C30B29/06C30B13/00C30B35/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank