Herstellungsverfahren für Sic-Verbundsubstrat

EP3351660 Art B1 8. Januar 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., CUSIC Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3351660
Aktenzeichen
EP16846380
Anmeldetag
9. September 2016
Veröffentlichung
8. Januar 2020
Erteilung
8. Januar 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C30B29/36C23C16/01C23C16/42C30B25/18C30B33/06C23C16/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
CUSIC Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
33
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Kunststoff- & Polymertechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Medizintechnik & Gesundheit Organische Chemie Optik & Fototechnik
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