Optische Anordnung, insbesondere in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Lithographie

EP3352014 Art A1 25. Juli 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3352014
Aktenzeichen: EP17186553
Anmeldetag: 17. August 2017
Veröffentlichung: 25. Juli 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B5/08G02B1/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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