Verfahren zur Herstellung eines Sic-Verbundsubstrats
EP3352197
Art B1
29. Juli 2020
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., CUSIC Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3352197
- Aktenzeichen
- EP16846379
- Anmeldetag
- 9. September 2016
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2020
- Erteilung
- 29. Juli 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/20H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
CUSIC Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
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Fachgebiete
10
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München