Verfahren und System zur Defektinspektion, Sortierung und Herstellung von Photomaskenrohlingen
EP3355115
Art B1
31. August 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3355115
- Aktenzeichen
- EP18153551
- Anmeldetag
- 25. Januar 2018
- Veröffentlichung
- 31. August 2022
- Erteilung
- 31. August 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/84G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.656 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
33
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München