Verfahren zur Herstellung eines Pellikels für eine Lithographische Vorrichtung und Pellikel für eine Lithographische Vorrichtung

EP3365730 Art B1 16. Juli 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3365730
Aktenzeichen
EP16788043
Anmeldetag
11. Oktober 2016
Veröffentlichung
16. Juli 2025
Erteilung
16. Juli 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20B01D67/00G03F1/62G21K1/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von
Filip, Diana Veldhoven, Niederlande
14
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
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