Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur und Resistmaterial

EP3382452 Art B1 10. März 2021

Anmelder: Osaka University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3382452
Aktenzeichen: EP16868688
Anmeldetag: 25. November 2016
Veröffentlichung: 10. März 2021
Erteilung: 10. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/038G03F7/38G03F7/20G03F7/11G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Osaka University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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